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真空鍍膜是在真空中把真空中的鈦,金,金屬(導(dǎo)電:鋁,錫,鎳,不導(dǎo)電:銦,銦鎳合金)石墨,水晶之類的金屬或非金屬,氣體等材料利用濺射,蒸發(fā),等離子體等技術(shù),在基材上開成薄膜的一種表面處理過(guò)程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比,真空鍍膜有很多的優(yōu)點(diǎn):如對(duì)環(huán)境無(wú)污染,是綠色環(huán)保工藝,對(duì)操作者無(wú)傷害,鍍層牢固,膜層致密性好,均勻抗腐蝕性強(qiáng)及耐磨性高!
真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有:蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā),電子槍蒸發(fā),電阻絲蒸發(fā)等);濺射鍍膜(包括直流磁控濺射,中頻磁濺射,射頻濺射等技術(shù)),這些方法統(tǒng)稱為物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition),簡(jiǎn)稱PVD 。
真空蒸鍍法:是在高度真空條件下加熱金屬,使其熔融、蒸發(fā),冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。
加熱金屬的方法:有利用電阻產(chǎn)生的熱能,也有利用電子束的。
在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí),為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形,必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外,熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發(fā)或升華,金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過(guò)程中和其他分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)原材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。
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